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本公开涉及一种量子设备及其制造方法。设备包括一个或多个半导体‑超导体纳米线,一个或多个半导体‑超导体纳米线各自包括一定长度的半导体材料和被涂覆于半导体材料上的超导体材料的涂层。纳米线可以形成于衬底上方。在第一方面中,纳米线中的至少一些纳米线是全壳纳米线,其中超导体材料沿着线的长度中的一些或全部长度围绕半导体材料的整个周边被涂覆,其中设备可操作以在全壳纳米线的一个或多个有源纳米线中诱发至少一个马约拉纳零模MZM。在第二方面中,纳米线中的至少一些纳米线相对于成品设备中的衬底的平面竖直地布置。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112437931 A
(43)申请公布日 2021.03.02
(21)申请号 201980048403.4 R ·卢奇
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