X射线光电子能谱原理及应用.pptxVIP

X射线光电子能谱原理及应用;一、前言 二、XPS基本原理及特点 三、XPS仪器介绍 四、样品制备 五、应用分析 ;;4;5;6;7;8;9;;; 电磁辐射与材料的相互作用;;;二、基本原理;光电子发射可以分为三个过程，即： ① 电子因光吸收而激发； ② 释放出的电子向固体表面移动； ③ 克服表面势场而射出——脱离固体表面。;入射光子的能量大于原子中电子的结合能及样品的功函数，吸收了光子的电子可以逃逸样品表面进入真空，且具有一定的动能，光电效应。;2、光电子能谱测量原理;功函数;XPS 结合能;X射线光电子谱基本原理;突然近似 ;绝热近似 ;结合能参照基准 ;绝热近似 ;X射线光电子谱仪的能量校准 ;荷电效应 ;荷电效应-中和法 ;荷电效应 -内标法 ;能量坐标标定 ;由于化合物结构变化和元素氧化状态变化引起谱峰有规律的位移称为化学位移。;（1）化学位移与元素电负性的关系——影响较大;化学位移-与元素电负性的关系;（2）化学位移与原子氧化态的关系;举例——金属Be氧化 金属Be的1s电子结合能为110eV。 实测金属Be的光电子能谱则有分裂峰，二者能量差2.9± 0.leV。 其中110.0eV的峰值对应的是金属Be（Bels）， 另一能量稍大的峰值对应的是BeO的Bels。 说明Be在氧化后，使Bels电子结合能增大。;XPS特点;;;;;;X射线激发俄歇线;;不同射线源产生光电子示意图;X射线激发俄歇线;Auger谱线：;XPS谱中的伴峰（卫星峰） ;谱线的类型 ;携上峰(shake-up，震激)和携下峰(shake-off，震离) ;携上峰和携下峰;多重裂分（静电裂分） ;能量损失峰;型号：ESCALAB 250Xi，Thermo Scientific ，美国 价格： 76万美元 ;三、XPS仪器介绍;;X射线是特征射线，不是连续波，能量具有单色性； X射线的能量与材料有关； X射线不是一根线，具有一系列线； XPS需要单色的，一定能量的X射线;由灯丝，阳极靶及虑窗组成 一般采用双阳极靶 常用Mg/Al双阳极靶 加铝窗或Be窗，阻隔电子进入分析室，也阻隔X射线辐射损伤样品。 灯丝不面对阳极靶，避免阳极的污染 ;Ｘ射线源;电子能谱仪通常采用的激发源有三种： X射线源、真空紫外灯 和 电子枪。 商品谱仪中将这些激发源组装在同一个样品室中，成为一个多种功能的综???能谱仪。; 能量范围适中（1253.7和1486.7eV） X射线的能量范围窄（0.7和0.85 eV） 能激发几乎所有的元素产生光电子； 靶材稳定，容易保存以及具有较高的寿命;;对于一些元素，其结合能较高，选择高能量靶，可以提高信号强度； 对于一些元素，需要高的能量分辨率以及低结合能端的信息，就可以采用低能靶； 对于研究XAES线，一般需要采用高能靶。 低能靶的能量分辨率高，对价带峰和低动能峰有利；高能靶激发能量强，能量分别率差。 ; 能量范围可调； 单色性好；峰宽窄； 射线强度大 聚焦束斑小 装置复杂 固定场所 价格贵;;X射线均具有很宽的自然宽度，能量分辨率受到限制；必须进行单色化； X射线难以聚焦，单色化很困难； 一般采用Rowland圆晶体进行单色化（衍射方式）。 强度为原来的1%。 容易产生严重荷电效应； ; 光电子能量分析器; 图 半球形电子能量分析器示意图; 检测器;谱仪灵敏度和检测限;真空系统; 样品表面的清洁； 样品表面层的剥离； Ar离子，氧离子，铯离子，镓离子等 固定溅射和扫描溅射; 目前发展趋势 可以分析小范围的样品，适合微区分析和选点分析，线扫描分析； 具有较高的空间分辨率（1mm－25微米） 荷电问题较小，可以测定绝缘体材料； 对样品的损伤小； ;四、样品制备;对待分析的样品有特殊要求，通常情况下只能对固体样品进行分析。 由于涉及到样品在超高真空中的传递和分析，待分析的样品一般都需要经过一定的预处理。 主要包括样品的大小，粉体样品的处理, 挥发性样品的处理，表面污染样品及带有微弱磁性的样品的处理。 ;在实验过程中样品必须通过传递杆，穿过超高真空隔离阀，送进样品分析室。因此，样品的尺寸必须符合一定的大小规范。 对于块体样品和薄膜样品，其长宽最好小于10mm, 高度小于5 mm。 对于体积较大的样品则必须通过适当方法制备成合适大小的样品。 但在制备过程中，必须考虑到处理过程可能会对表面成分和状态的影响。;两种制样方法：双面胶带直接固定； 粉体样品压成薄片再固定。 前者优点是制样方便、样品用量少、预抽到高真空的时间较短；缺点是可能会引进胶带的成分。在普通的实验过程中，一般采用胶带法制样。 后者优点是可在真空中对样品进行处理，如原位和反应等，其信号强度要