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2023-05-29 发布于四川
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本发明提供一种掩模板及曝光方法。所述掩模板包括液晶盒结构、位于其第一表面一侧的第一电极层和第一偏光膜以及位于其第二表面一侧的第二电极层和第二偏光膜，第一电极层包括覆盖液晶层表面不同位置的多个第一透明电极，第二电极层包括与各个第一透明电极位置对应且极性相反的第二透明电极，当通过在第一透明电极和第二透明电极形成电场时，电场中的液晶分子发生偏转会使得从第二偏光膜输出的光通量发生变化，进而在液晶层的范围内形成包括遮光区和透光区的掩模图案，该掩模板上形成的掩模图案是可写可擦除的，从而可以实现多种掩模图案的

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112394609 A (43)申请公布日 2021.02.23 (21)申请号 201910759877.1 (22)申请日 2019.08.16 (71)申请人合肥晶合集成电路股份有限公司

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