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本发明公开了一种抛光装置，包括基座，基座设有抛光头座，抛光头座设有两个用以固定晶圆的抛光头和位于两抛光头之间用以带动两抛光头移动的直线驱动机构。抛光工艺过程中，基座位于抛光台的上方，抛光头带动晶圆自转，同时直线驱动机构同时带动两片晶圆直线平移扫略。沿直线扫略会使抛光液分布更加均匀，同时抛光垫磨损也更加均匀因而两片晶圆的抛光一致性能够显著提高。同一批次的晶圆抛光相同，保证了产品的质量稳定，简化了后续处理过程中检测产品质量的步骤。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112405330 B
(45)授权公告日 2021.09.07
(21)申请号 202011419911.X 审查员 陈继传
(22)申请日 2020.12.08
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