一种反应腔装置及其工作方法.pdfVIP

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  • 2023-05-30 发布于四川
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一种反应腔装置及其工作方法,反应腔装置包括:反应腔主体;位于所述反应腔主体内的晶圆承载平台,所述晶圆承载平台的表面适于放置晶圆;环绕所述晶圆承载平台的缓冲环,所述缓冲环适于延长反应源粒子沿着晶圆表面向外横向运动的路径。所述反应腔装置能够调节晶圆表面的反应速率的均匀性。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112447488 A (43)申请公布日 2021.03.05 (21)申请号 202011496224.8 (22)申请日 2020.12.17 (71)申请人 上海谙邦半导体设备有限公司

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