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本发明涉及半导体技术领域，公开了一种清洗装置、清洗方法及清洗系统。其中，清洗装置，包括清洗箱；设置在清洗箱内、用于放置并带动待清洗物旋转的旋转台；设置在旋转台上方的通风口，通风口用于向清洗箱内输入无尘空气；围绕旋转台设置的第一挡板；自第一挡板向上、并朝向靠近第一挡板内部方向延伸的第二挡板和第三挡板，第二挡板至少部分位于旋转台上方，第三挡板位于第二挡板上方、且第三挡板与旋转台的夹角大于第二挡板与旋转台的夹角；第二挡板及第一挡板与旋转台之间间隔形成通风通道。本发明实施方式所提供的清洗装置、清洗方法及
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112447545 A
(43)申请公布日
2021.03.05
(21)申请号 20191
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