一种步进式光刻机、其工作方法及图形对准装置.pdfVIP

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2023-05-30 发布于四川
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一种步进式光刻机、其工作方法及图形对准装置.pdf

本发明公开了一种步进式光刻机、其光刻图形对准装置及工作方法。本发明在晶圆上设置若干三维标记，以此作为晶圆表面定位的坐标预设，利用针尖传感头传感技术测量该三维标记获得晶圆表面亚纳米精度的坐标，然后移动晶圆工作台，随之测得晶圆工作台移动后的三维标记的新坐标并同晶圆工作台移动前同样的三维纳米坐标比较得出晶片区域位置坐标误差值。利用闭环控制原理将这个坐标误差通过移动曝光束发生装置同晶片区域的相对位置进行补偿，实现相对坐标位置的重新精确对准。本发明可以应用在使用掩模板的深紫外和极紫外光学光刻机，也可以应用

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112445088 A (43)申请公布日 2021.03.05 (21)申请号 202011412793.X (22)申请日 2020.12.04 (71)申请人百及纳米科技（上海）有限公司

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