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- 2023-05-30 发布于四川
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一种反应腔装置及其工作方法,反应腔装置包括:反应腔主体;位于所述反应腔主体内的晶圆承载平台,所述晶圆承载平台的表面适于放置晶圆;环绕所述晶圆承载平台的缓冲环,所述缓冲环适于在垂直于晶圆承载平台上表面的方向上进行移动。所述反应腔装置能够调节整个晶圆表面反应速率的均匀性。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112447489 A
(43)申请公布日 2021.03.05
(21)申请号 202011566713.6
(22)申请日 2020.12.25
(71)申请人 上海谙邦半导体设备有限公司
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