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- 2023-05-30 发布于四川
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本发明提供一种等离子体处理装置和温度控制方法。在一个例示的实施方式中，等离子体处理装置包括多个微波辐射机构、载置台、下部加热源和上部加热源。多个微波辐射机构设置于处理容器的上部。载置台配置于处理容器内。下部加热源设置于载置台内。上部加热源配置于与载置台相对的位置。根据本发明，能够形成品质优良的膜。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112466736 A
(43)申请公布日 2021.03.09
(21)申请号 202010893601.5
(22)申请日 2020.08.31
(30)优先权数据
2019-1637
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