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半导体装置及其形成方法.pdfVIP

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  • 2023-05-30 发布于四川
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半导体装置及其形成方法.pdf

    本发明提供一种半导体装置及其形成方法。该半导体装置包括基板以及光准直层。基板具有多个像素。光准直层设置于基板上。光准直层包括设置于基板上的遮光层、设置于遮光层中的多个透明柱体、设置于像素上的多个光学微透镜。本发明可以增进光准直层的准直效能，避免或减少透明柱体发生倒塌的情况。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112466894 A (43)申请公布日 2021.03.09 (21)申请号 20191

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