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薄膜晶体管及其制作方法、阵列基板和显示装置.pdfVIP

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  • 2023-05-30 发布于四川
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薄膜晶体管及其制作方法、阵列基板和显示装置.pdf

    本发明公开一种薄膜晶体管(10)，包括衬底(11)、有源层(12)、第一接触层(13)、第二接触层(14)、栅极绝缘层(15)、栅极(16)、源极(17)及漏极(18)，所述有源层(12)、所述第一接触层(13)及所述第二接触层(14)设于所述衬底(11)上，所述栅极(16)在所述衬底(11)上的正投影与所述第一接触层(13)在所述衬底(11)上的正投影之间的交叠面积为零，所述栅极(16)在所述衬底(11)上的正投影与所述第二接触层(14)在所述衬底(11)上的正投影之间的交叠面积为零。本发明还

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112470268 A (43)申请公布日 2021.03.09 (21)申请号 201880093833.3 (22)申请日 2018.05.30 (85)PCT国际申

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