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用于高反射率铝层的方法和设备.pdfVIP

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  • 2023-05-30 发布于四川
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用于高反射率铝层的方法和设备.pdf

    提供了一种用于增加基板上的铝层的反射率的方法及设备。在一些实施方式中，一种在基板上沉积铝层的方法，包括以下步骤：利用化学气相沉积(CVD)工艺在基板上沉积钴或钴合金层或钛或钛合金层；若损害钴或钴合金层的顶表面，则在约400摄氏度的温度下利用热氢退火预处理钴或钴合金层；和在约120摄氏度的温度下利用CVD工艺在钴或钴合金层或钛或钛合金层上沉积铝层。可实现钴或钴合金层的预处理达约60秒至约120秒的持续时间。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112470263 A (43)申请公布日 2021.03.09 (21)申请号 201980030050.5 F ·G ·瓦西纳诺特　

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