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抗蚀剂下层膜形成用组合物.pdfVIP

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  • 2023-05-30 发布于四川
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抗蚀剂下层膜形成用组合物.pdf

    包含附加了下式(1)所示的基团的聚合物。(在式(1)中，Rx、Sy和Sz各自独立地为氢原子或一价有机基，Ry和Rz各自独立地为单键或二价有机基，环Ary和环Arz各自独立地为碳原子数4～20的环状烷基或碳原子数6～30的芳基，并且，可以彼此结合而在环Ary和环Arz之间形成新的环，ny为0以上并且为能够在环Ary上取代的最大数以下的整数，nz为0以上并且为能够在环Arz上取代的最大数以下的整数，※为与聚合物的结合位置。)

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112470076 A (43)申请公布日 2021.03.09 (21)申请号 201980048174.6 (74)专利代理机构 北京市中咨律师

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