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本公开提供了一种半导体器件，所述半导体器件包括：位于衬底上的层间介电层；填充所述层间介电层的第一沟槽的第一连接线，所述第一沟槽具有第一宽度；以及填充所述层间介电层的第二沟槽的第二连接线，所述第二沟槽具有大于所述第一宽度的第二宽度，并且所述第二连接线包括：覆盖所述第二沟槽的内侧壁的第一金属层，覆盖所述第二沟槽的底表面的阻挡层，以及位于所述第一金属层和所述阻挡层上的第二金属层，所述第一连接线和所述第一金属层包括第一金属，并且所述第二金属层包括不同于所述第一金属的第二金属。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112447848 A
(43)申请公布日 2021.03.05
(21)申请号 202010699618.7 H01L 21/768 (2006.01)
(22)申请日
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