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本发明提供一种多磁场复杂曲面化学机械抛光装备，包括主轴系统，磁场系统，抛光槽和数控系统。抛光时，抛光槽内填充化学抛光液和磁性磨料，抛光过程中可以通过改变各个转盘的速度，改变两侧转盘与抛光槽的间距来改变抛光槽内的磁场强度，进一步改变抛光槽内磁性磨料的运动轨迹与运动形态，结合主轴的转速和偏转角度的变化以及主轴的轴向超声振动作用，使得磁性磨料能到达曲面零件的任何表面，并以较强的均匀的机械磨削作用力去除复杂曲面零件表面由化学抛光液形成的软化膜，该装备能适用于抛光不同类型、不同材质的复杂曲面零件，通用性强
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114029850 A
(43)申请公布日 2022.02.11
(21)申请号 202111396028.8 B24B 47/00 (2006.01)
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