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- 2023-05-31 发布于四川
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一种MEMS气体敏感结构及其制备工艺方法，MEMS气体敏感结构包括衬底、金属电极层和气敏层，金属电极层通过在衬底上经过溅射‑图形化‑腐蚀工艺而形成，气敏层为在金属电极层上通过物理气相沉积(PVD)与溶液滴涂或旋涂工艺制备，并经过图形化后形成气敏材料薄膜，该气敏材料薄膜由过渡金属氧化物薄层和有机高分子薄膜复合形成。本发明的MEMS气体敏感结构基于过渡金属氧化物和高分子有机物复合后形成的薄膜作为气敏层，可在常温条件下实现对多种气体的敏感，相比于传统的金属氧化物气敏材料，可大幅改善其场景可用性，并可降
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112505098 A
(43)申请公布日 2021.03.16
(21)申请号 202011187079.5
(22)申请日 2020.10.29
(71)申请人 北京机械设备研究所
地
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