GLSI多层铜布线平坦化工艺改进.docxVIP

PAGE 2 PAGE 2 毕业实习与设计（论文）中文摘要 GLSI多层铜布线平坦化工艺改进 摘 要：本论文基于正交实验研究了压力、相对转速、流量和活性剂四个因素对抛光速率一致性的影响，采用方差分析确定各因素对抛光速率一致性的影响显著性。研究结果表明：各因素对抛光速率一致性均有高度显著的影响。通过单因素实验研究了各因素对铜抛光速率一致性的影响规律，并提出了相关的影响机制。实验结果表明：压力和活性剂主要控制晶圆中心处的抛光速率；相对转速和流量主要控制晶圆边缘处的抛光速率，低压力、高转速、高流量以及高活性剂浓度可获得低片内非均匀性（WIWNU），即高去除速率一致性。本文最终确定的工艺