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本发明公开了一种可用于光电子器件的防潮结构及其制备方法,属于防潮材料技术领域,其中,一种可用于光电子器件的防潮结构,从下到上依次为附着面和防潮薄膜结构,附着面为基底的表面或者光电子器件的表面;防潮薄膜结构的总厚度不超过15um;防潮薄膜结构是由混合溶剂、防潮剂和保护剂的混合溶液经喷涂而成;防潮薄膜结构以质量成分计,分别为,混合溶剂:45~65%、防潮剂:25~35%、保护剂:10~20%;一种可用于光电子器件的防潮结构的制备方法如下:先对光电子器件表面或基底表面进行清洗,然后分别制备混合溶剂、防
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112509985 A
(43)申请公布日 2021.03.16
(21)申请号 202011464534.1
(22)申请日 2020.12.14
(71)申请人 电子科技大学
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