炉管工艺中目标膜层的制备方法.pdfVIP

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2023-05-31 发布于四川
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炉管工艺中目标膜层的制备方法.pdf

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本发明提供一种炉管工艺中目标膜层的制备方法，包括：在挡片晶圆的衬底上方预先形成预设厚度的目标膜层；将挡片晶圆先后分别与不同批次的产品晶圆在炉管中一同生长目标膜层；挡片晶圆重复使用超过预定次数后，清洗去除挡片晶圆累积生长的目标膜层。本发明在主工艺挡片晶圆与产品晶圆在炉管中一同生长目标膜层之前，在前制程工艺中在挡片晶圆的衬底上方预先形成预设厚度的目标膜层，如此一来，无论新挡片晶圆(未使用过)还是炉管机台内使用过的挡片晶圆二者表面均形成有目标膜层，二者表面膜层材质相同，反应过程的热导率趋于一致，使目标

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 115787086 A (43)申请公布日 2023.03.14 (21)申请号 202211503238.7 (22)申请日 2022.11.28 (71)申请人广州粤芯半导体技术有限公司地址