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本发明的清洗浴槽(21)对保持于盒(51)的半导体基板(57)进行超声波处理，并具备：底壁部(22)；筒状侧壁部(23)，从底壁部(22)立起并在内部存积处理液；以及制止部(30)，制止浸渍于上述处理液的上述盒(51)向上述底壁部(22)的面内方向以及相对于上述面内方向的交叉方向的移动。在上述筒状侧壁部(23)的与筒轴方向正交的截面中，上述筒状侧壁部(23)的内侧面的周向的一部分为曲线并且余下部分为直线。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112514033 A
(43)申请公布日 2021.03.16
(21)申请号 201980050101.0 (74)专利代理机构 北京集佳知识产权代理有限
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