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本发明提供成膜系统及其中使用的磁化特性测量装置和成膜方法。成膜系统包括：在基片上形成磁性膜的处理单元；磁化特性测量装置，其测量在处理单元中形成的磁性膜的磁化特性；以及在处理单元与磁化特性测量装置之间输送基片的输送部。磁化特性测量装置包括：磁场施加机构，其具有对基片施加磁场并能够调节施加到上述基片的磁场的永磁体磁路；和检测上述基片的磁化特性的检测器。本发明能够测量所形成磁性膜的磁化特性。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112530835 A
(43)申请公布日 2021.03.19
(21)申请号 202010933375.9 H01L 43/08 (2006.01)
(22)申请日 2
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