原创力文档- 1
- 0
- 约2.71万字
- 约 22页
- 2023-06-01 发布于四川
- 举报
根据本公开的示例实施例，提供了用于处理电路版图的方法、装置、设备和计算机可读存储介质。用于处理电路版图的方法包括生成用于对电路版图执行光学邻近校正的多个子作业。每个子作业对应于电路版图的一个版图单元，并且指定要对版图单元执行的用于光学邻近校正的一个或多个操作。该方法还包括基于多个处理设备的配置信息和一个或多个操作的复杂度，将多个子作业分配给多个处理设备。多个处理设备中的至少一个处理设备被配置有加速处理资源。该方法进一步包括基于多个处理设备对多个子作业处理的结果，确定经过光学邻近校正的电路版图。以
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112560392 B
(45)授权公告日 2021.08.10
(21)申请号 202011492348.9 (56)对比文件
文档评论（0）