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提供集成电路器件。集成电路器件包括:下电极,形成在基底上;以及上支撑结构,围绕下电极设置并支撑下电极。上支撑结构包括:上支撑图案,围绕下电极并沿平行于基底的横向方向延伸,上支撑图案具有下电极所穿过的孔;以及上间隔件支撑图案,位于上支撑图案与孔内部的下电极之间并具有与上支撑图案接触的外侧壁和与下电极接触的内侧壁,其中,上间隔件支撑图案在横向方向上的宽度沿朝向基底的方向减小。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112530948 A
(43)申请公布日
2021.03.19
(21)申请号 20201
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