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本发明属于半导体领域,公开了一种氧化铟锌烧结靶,由氧化锌、氧化铟、稀有金属氧化物为原料制备得到;氧化锌、氧化铟、稀有金属氧化物的重量比为6~13:87~94:0.001~0.2;氧化锌、氧化铟、稀有金属氧化物的D90粒度均为200‑300nm。该氧化铟锌烧结靶通过稀有金属氧化物改性并控制原材料粒径,可以有效的降低靶材的电阻率和气孔率,同时,本发明还公开了该烧结靶的制备方法。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116177993 A
(43)申请公布日 2023.05.30
(21)申请号 202211616118.8
(22)申请日 2022.12.15
(71)申请人 先导薄膜材料(广东)有限公司
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