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本发明提供一种硅片清洗装置及降低硅片清洗装置中过滤器累积污染的方法，定期打开排液阀，排空过滤器中残留的积液，之后关闭排液阀；然后向药液清洗槽体内放入柠檬酸液体，通过循环泵流经硅片清洗装置各装置和管路，通过柠檬酸的螯合作用与Al(OH)4‑、Fe(OH)4‑、Zn(OH)3‑结合形成稳定络合物，然后打开排液阀，清洗冲走络合物；能够有效清除过滤器底座存在的死角，保证硅片清洗装置内部清洁度，提高硅片清洗质量；且能延长过滤器的过滤芯使用寿命，降低成本。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112517517 A
(43)申请公布日 2021.03.19
(21)申请号 202011499013.X
(22)申请日 2020.12.17
(71)申请人 上海中欣晶圆半导体科技有限公司
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