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内壁构件的再生方法.pdfVIP

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  • 2023-06-02 发布于四川
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内壁构件的再生方法.pdf

    设于进行等离子处理的处理室的内壁的内壁构件(40)具备：基材(41)；具有端部(EP1)的阳极氧化膜(42a)；和具有端部(EP2)的喷镀膜(42b)。基材(41)具有表面(FS1)、位于比表面(FS1)高的位置的表面(FS2)以及侧面(SS1)。内壁构件(40)的再生方法具有如下工序：(a)将从喷镀膜(42b)露出的阳极氧化膜(42a)用掩蔽件(100)覆盖；(b)通过对喷镀膜(42b)进行喷砂处理，来除去表面(FS2)上的喷镀膜(42b)，留下表面(FS1)上以及侧面(SS1)上的喷镀膜(4

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 115803469 A (43)申请公布日 2023.03.14 (21)申请号 202180008331.8 (51)Int.Cl.

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