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一种溅射靶，含有Cu和In作为金属成分，并且由金属相(12)与氧化物相(11)的复合组织组成，所述氧化物相(11)的面积率在5％以上且96％以下的范围内，密度比为90％以上。一种溅射靶的制造方法，具有：烧结原料粉末形成工序(S01)，得到烧结原料粉末，所述烧结原料粉末含有由Cu粉末及In‑Cu合金粉末中的任意一方或双方组成的金属粉末和由CuO粉末及In2O3粉末中的任意一方或双方组成的氧化物粉末，且所述金属粉末的中值粒径DM与所述氧化物粉末的中值粒径DO之比DM/DO在0.5以上且200以下的范
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112585296 A
(43)申请公布日 2021.03.30
(21)申请号 201980054614.9 (74)专利代理机构 北京德琦知识产权代理有限
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