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2023-06-03 发布于四川
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控制装置、处理装置和控制方法.pdf

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本发明提供能够抑制清洁导致的过蚀刻和膜残留的控制装置、处理装置和控制方法。本发明的一个方式的控制装置控制在处理容器内收纳基片并对其进行处理的处理装置的动作，其包括：获取上述处理容器内的温度的温度获取部；存储部，其存储表示上述处理容器内的温度与蚀刻速度的关系的关系信息和包含上述处理容器内的沉积膜的累积膜厚的膜厚信息；速度计算部，其基于上述温度获取部获取到的上述温度和存储于上述存储部中的上述关系信息来计算上述沉积膜的蚀刻速度；以及时间计算部，其基于上述速度计算部计算出的上述蚀刻速度和存储于上述存储部

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112635283 A (43)申请公布日 2021.04.09 (21)申请号 202011039465.X (22)申请日 2020.09.28 (30)优先权数据 2019-1854

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