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本申请涉及发光二极管领域,具体公开一种发光二极管及其制造方法,该发光二极管包括:外延层,包括层叠设置的第一半导体层、有源层以及第二半导体层;半导体电极,半导体电极以埋入方式设置于第一半导体层内,其中半导体电极与第一半导体层具有相同的掺杂类型,并沿第一半导体层的主表面呈网格状设置,半导体电极的导电率高于第一半导体层的导电率。通过上述方式,本申请可实现更佳的第一半导体层区域内的电流扩散,能够增加发光二极管的发光面积,并提升发光二极管的发光效率。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112614921 A
(43)申请公布日 2021.04.06
(21)申请号 202011634459.9
(22)申请日 2020.12.31
(71)申请人 深圳第三代半导体研究院
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