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本发明涉及一种用于制造至少拉伸应变的平面光电二极管1的方法，包括：制造由半导体层53、55和抗反射层20形成的堆叠，该半导体层由第一材料制成；制造外围沟槽30，该外围沟槽通向抗反射层20的由第二材料制成的种子子层22；在外围沟槽30中外延由第二材料制成的外围部分31；以及返回至室温，然后由于两种材料之间的热膨胀系数的差异，检测部分10被拉伸应变。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112635611 A
(43)申请公布日 2021.04.09
(21)申请号 202011051395.X H01L 33/20 (2010.01)
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