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本发明涉及太阳能电池技术领域,针对现有技术的TOPCon电池中接触钝化层光吸收率高的问题,公开了提供一种应用于接触钝化电池的钝化结构及其制备方法,包括N型衬底、设于所述N型衬底正面的两个正电极和设于所述N型衬底背面的两个负电极,所述N型衬底的背面设有SiO2层,所述SiO2层上设有掺杂多晶SiOxNy层。本发明通过用掺杂多晶氮氧化硅层替代多晶硅层,在保证接触电阻变化不大的基础上,通过适当条件的掺杂和退火,以降低接触钝化层的光吸收,提高接触钝化类型电池的效率。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112670352 A
(43)申请公布日 2021.04.16
(21)申请号 202011490646.4
(22)申请日 2020.12.16
(71)申请人 浙江
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