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- 2023-06-04 发布于四川
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本发明公开了一种打磨设备、打磨盘的加工方法以及碳化硅晶片的加工方法,所述打磨设备包括:第一转动设备,所述第一转动设备用于安装砂轮,且能够带动所述砂轮转动,或所述第一转动设备用于支撑载体盘,且能够带动所述支撑载体盘转动;所述支撑载体盘用于安装碳化硅晶片;第二转动设备,所述第二转动设备用于放置打磨盘,能够带动所述打磨盘沿其圆心轴线转动。应用本发明提供的技术方案,通过在打磨盘表面增加非规律性几何纹理,使碳化硅晶片表面在机械研磨或抛光时,在碳化硅晶片表面达到均匀研磨,减弱特定位置出现的特定浅而宽的沟槽,
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112692722 A
(43)申请公布日 2021.04.23
(21)申请号 202011554118.0
(22)申请日 2020.12.24
(71)申请人 江苏天科合达半导体有限公司
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