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本发明公开了一种表面改性的氧化铈颗粒及含其的抛光液。表面改性的氧化铈由氧化铈经如式I所示的改性剂改性得到。本发明表面改性的氧化铈颗粒可用作CMP磨粒，经表面改性后可降低氧化铈磨料的团聚，提高其在水中的分散性能并应用于化学机械抛光中，改善抛光后工件的表面质量。含有本发明表面改性的氧化铈的抛光液在氧化硅膜和氮化硅膜之间的抛光选择比较高，沟槽部的碟陷Dishing量较低，粗糙度均方根值RMS小。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112662202 B
(45)授权公告日 2022.05.10
(21)申请号 202110003324.0 C09C 3/12 (2006.01)
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