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- 2023-06-04 发布于四川
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半导体器件。本文提供了一种半导体器件,所述半导体器件包括:沟道层;数据存储层,所述数据存储层围绕所述沟道层并且沿着沟道层延伸;层间绝缘层,所述层间绝缘层围绕数据存储层并且沿着沟道层层叠,其中,所述层间绝缘层彼此间隔开,其中,在所述层间绝缘层之间设置导电区域;导电图案,所述导电图案被设置在导电区域中并且围绕数据存储层;缓冲图案,所述缓冲图案被设置在所述层间绝缘层与所述数据存储层之间,并且围绕数据存储层,其中,各个缓冲图案包括致密区域,其中,所述缓冲图案通过导电区域彼此间隔开;以及阻挡绝缘图案,所述
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112701122 A
(43)申请公布日 2021.04.23
(21)申请号 202011580043.3 H01L 27/11582 (2017.01)
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