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真空器皿离子镀工艺.pdfVIP

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  • 2023-06-05 发布于四川
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真空器皿离子镀工艺.pdf

    本发明提供了一种真空器皿离子镀工艺，属于离子镀技术领域。它解决了现有技术存在着稳定性差的问题。本真空器皿离子镀工艺包括以下步骤：A、准备：真空电镀装置包括内部为空腔的壳体，在壳体内具有用于放置真空器皿工件的连接架，壳体上具有能开闭的门板，打开门板后将壳体内部清理干净；B、工件放置：将需要处理的真空器皿工件放置在工件架上，然后关闭门板；C、离子镀作业：壳体上连接有金属离子输入器，金属离子输入器作业后，壳体内产生的金属离子附着在真空器皿工件外侧；D、停机取料：真空电镀装置停止作业后，打开门板将工件架

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112708856 A (43)申请公布日 2021.04.27 (21)申请号 202011420077.6 (22)申请日 2020.11.30 (71)申请人 浙江安胜科技股份有限公司

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