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- 2023-06-05 发布于四川
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一种用于在基底上沉积半导体材料层的反应器(100),包括:反应室(110)、位于反应室内的基座组件(120)以及适于通过电磁感应加热基座组件的加热系统(130);加热系统(130)包括第一感应器(131)和第二感应器(132)以及适于将彼此不同且独立的交流电电力地馈电给第一感应器和第二感应器(131,132)的电源(135);反应器(100)还包括适于限制第一感应器和第二感应器(131,132)之间的电磁耦合的屏蔽组件(140)。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112752864 A
(43)申请公布日 2021.05.04
(21)申请号 201980063499.1 (74)专利代理机构 北京安信方达知识产权代理
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