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2023-06-05 发布于四川
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一种纳米粒子图案化装置及纳米粒子图案化方法，该装置包括相对设置的上绝缘基板和下绝缘基板，上绝缘基板靠近所述下绝缘基板一侧设有一图案化电极，下绝缘基板周围设有挡板以形成容置槽；通过图案化电极图案的设置，可以对同一种纳米材料形成的图案在交流电场的施加中一次成型，并且该图案化电极可根据实际需要设计并可重复利用，节约了制作成本，此外，本申请通过基于胶体纳米粒子分散体系中，纳米粒子在交流电场的作用下聚集在电极附近的方式，实现对特定图案一次成型的效果，并且，可以通过电极的二次对位，实现其它纳米粒子在同一基板

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112736212 A (43)申请公布日 2021.04.30 (21)申请号 201911028123.5 (22)申请日 2019.10.28 (71)申请人 TCL华星光电技术有限公司

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