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光源装置及使用其的投影装置、以及荧光激励装置.pdfVIP

光源装置及使用其的投影装置、以及荧光激励装置.pdf

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    在光源装置及使用其的投影装置、以及荧光激励装置中，对从半导体激光器出射的光线的纵横比进行调节后使其聚光于规定的聚光位置，减小聚光位置处的光斑直径。光源装置(100)具备：半导体激光器(10)；光束整形透镜(20)，对从半导体激光器(10)出射的光线(50)的纵横比进行调节；和聚光透镜(30)，使从光束整形透镜(20)出射的光线(50)聚光于聚光位置(P)，光束整形透镜(20)设为相对于入射的光线(50)的慢轴(S)的方向具有负的光焦度的柱面透镜。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112740096 A (43)申请公布日 2021.04.30 (21)申请号 201980059845.9 (74)专利代理机构 中科专利商标代理有限责任

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