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一种等离子体处理装置.pdfVIP

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  • 2023-06-05 发布于四川
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一种等离子体处理装置.pdf

    本发明实施例公开了一种等离子体处理装置。该等离子体处理装置包括：反应腔室，用于进行等离子体反应；上电极和下电极，上电极设置于反应腔室的顶部，下电极设置于反应腔室的底部；第一温度调节部和第二温度调节部，第一温度调节部和第二温度调节部均设置于反应腔室的顶部，且第一温度调节部在上电极所在平面的垂直投影位于上电极内，第二温度调节部在上电极所在平面的垂直投影环绕上电极。本发明实施例可以避免整个等离子体处理装置的反应腔室只能在上电极的边缘区域进行加热冷却的情况，防止反应腔室中间区域与边缘区域温差过大，提高反

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 112750676 B (45)授权公告日 2022.07.08 (21)申请号 202011334077.4 C23C 16/50 (2006.01)

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