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一种电感耦合等离子体和聚焦离子束刻蚀的微镜侧壁加工方法.pdfVIP

一种电感耦合等离子体和聚焦离子束刻蚀的微镜侧壁加工方法.pdf

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本发明涉及一种电感耦合等离子体和聚焦离子束刻蚀的微镜侧壁加工方法。包括以下步骤:首先,利用电感耦合等离子体(ICP)技术对光开关加工,得到光开关样品;然后,利用聚焦离子束(FIB)技术对样品侧壁反射镜镜面二次刻蚀加工,具体有以下步骤:样品固定步骤,在聚焦离子束和电子束的双束系统中,将待加工样品固定在样品台上;加工参数选择步骤,选择合适的待加工区域和摸底实验区域,然后对摸底实验区域模拟加工,确定合适的加工参数;加工步骤,利用聚焦离子束对反射镜镜面刻蚀。基于电感耦合等离子体技术和聚焦离子束技术相结合

(19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 112735936 B (45)授权公告日 2022.06.10 (21)申请号 202110005187.4 (56)对比文件 (22)申请日 2021.01.04

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