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- 2023-06-06 发布于四川
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本发明公开一种抛光垫,包括抛光层,所述抛光层包括抛光表面和位于抛光表面上的抛光单元,所述抛光单元至少为一个,抛光单元组成抛光单元群,抛光单元群的一端形成接触表面,接触表面与被研磨材料直接接触,每个抛光单元在接触表面投影为平行四边形;多个抛光单元分别组成第一部分和第二部分,第一部分沿第一方向延伸并均匀间隔,第二部分沿与第一方向平行的方向延伸并均匀间隔;并且,抛光单元的接触表面的面上具有通道,且包括第一通道和第二通道;本发明抛光垫的结构与限定的抛光单元面积比,有效面积比、有效通道体积比以及有效通道的
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112757154 A
(43)申请公布日 2021.05.07
(21)申请号 202110087557.3
(22)申请日 2021.01.22
(71)申请人 湖北鼎汇微电子材料有限公司
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