原创力文档- 6
- 0
- 约1.15万字
- 约 13页
- 2023-06-06 发布于四川
- 举报
本发明公开了一种光罩的缺陷去除方法及装置，包括：提供待处理光罩，所述待处理光罩包括透明基底及位于所述透明基底一侧表面的遮光缺陷层；自所述遮光缺陷层背离所述透明基底一侧，采用第一镭射激光对所述遮光缺陷层进行减薄；采用第二镭射激光去除减薄后的所述遮光缺陷层，其中，所述第二镭射激光的激光脉冲能量大于所述第一镭射激光的激光脉冲能量。首先选择低激光脉冲能量的第一镭射激光对遮光缺陷层进行减薄，而后通过高激光脉冲能量的第二镭射激光对减薄后的遮光缺陷层进行彻底去除；进而，采用第二镭射激光去除较薄的遮光缺陷层时能
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112764309 A
(43)申请公布日 2021.05.07
(21)申请号 202110177218.4
(22)申请日 2021.02.07
(71)申请人 泉芯集成电路制造（济南）有限公司
文档评论（0）