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- 2023-06-06 发布于四川
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本发明概念涉及一种挡板单元及包括该挡板单元的基板处理设备。用于处理前述基板的前述设备包括:外壳,前述外壳具有处理空间;支撑单元,前述支撑单元支撑前述基板于前述处理空间中;等离子体源,前述等离子体源自处理气体产生等离子体;及挡板单元,前述挡板单元安置于前述支撑单元上方。前述挡板单元包括挡板,前述挡板在其中形成有前述处理气体及/或前述等离子体流动通过的第一孔,且前述挡板具有形成于前述挡板的边缘区中的第二孔,前述第二孔中的每一者具有纵向方向,前述纵向方向在自上方检视时相对于前述挡板的径向方向倾斜。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112802730 A
(43)申请公布日
2021.05.14
(21)申请号 20191
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