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用于RF等离子体反应器的等离子体鞘控制.pdfVIP

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  • 2023-06-06 发布于四川
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用于RF等离子体反应器的等离子体鞘控制.pdf

    一些实施例包括一种等离子体鞘控制系统，其包括：RF电源，其产生具有大于20kHz的频率和大于1kV的峰值电压的正弦波形；和等离子体腔室，其与所述RF电源电耦合，所述等离子体腔室具有通过大于大约1kV的能量受加速到所部署的表面中的多个离子，并且所述等离子体腔室从所述正弦波形在所述等离子体腔室内产生等离子体鞘。所述等离子体鞘控制系统包括：阻流二极管，其电连接在所述RF电源与所述等离子体腔室之间；和电容放电电路，其与所述RF电源、所述等离子体腔室和所述阻流二极管电耦合；所述电容放电电路通过大于1kV的

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112805920 A (43)申请公布日 2021.05.14 (21)申请号 201980051988.5 (72)发明人 艾丽亚 ·斯劳伯道夫　

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