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本发明提供一种用于轨道衡的校准设备，轨道衡包含基座以及位于基座上的两个平行设置的轨道，在轨道与基座之间设置有若干第二压力传感器；校准设备包括：位于轨道衡上方的的若干支撑架构，支撑架构由竖杆和横杆组成，竖杆的底端固定连接到基座，顶端固定连接到横杆，横杆至少从一轨道延伸到另一轨道；横杆上设置有两个施力装置，每个施力装置均对应到唯一的轨道，每个施力装置的顶端固定连接到横杆、且底端能够抵靠所对应的轨道，施力装置能够通过其底端向对应的轨道施加压力；在施力装置的底部与轨道之间设置有第一压力传感器。该校准设备
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112781708 B
(45)授权公告日 2022.08.26
(21)申请号 202011611729.4 (56)对比文件
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