1. 您所在位置：
  2. 网站首页
  3. 文档分类
  4. 行业资料
  5. 国内专利

高附着率的电容器基膜及其制备装置、方法.pdfVIP

  • 2
  • 0
  • 约1.4万字
  • 约 14页
  • 2023-06-06 发布于四川
  • 举报

高附着率的电容器基膜及其制备装置、方法.pdf

    高附着率的电容器基膜，所述电容器基膜为2.8～3.8微米厚度的双向拉伸聚丙烯薄膜，所述电容器基膜表面凹设有不规则排布的纳米级微孔槽。本发明对双向拉伸聚丙烯薄膜(BOPP)表面进行电晕处理，以形成不规则排布的纳米级微孔槽，增加其表面粗糙度和表面积，提高其表面附着率，保证后期金属化薄膜的合格率。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112768236 A (43)申请公布日 2021.05.07 (21)申请号 202110095780.2 (22)申请日 2021.01.25 (71)申请人 安徽旭峰电容器有限公司

    您可能关注的文档

    最近下载

    文档评论（0）

    1亿VIP精品文档

    更多 >

    相关文档

    更多 >