用于制备含硅和氮的膜的方法.pdfVIP

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  • 2023-06-06 发布于四川
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用于沉积高质量的氮化硅的组合物引入含有衬底的反应器中,接着引入包括氨源的等离子体。所述组合物包括具有如本文中限定的式I的硅前体化合物。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112805405 A (43)申请公布日 2021.05.14 (21)申请号 201980062463.1 (74)专利代理机构 北京市金杜律师事务所

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