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- 2023-06-06 发布于四川
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本文描述的实施方式涉及形成光学装置结构的方法。方法的一个实施方式包括以下步骤：相对于基板的表面的表面法线以离子角度将基板暴露于离子，以形成复数个深度的初始深度。图案化掩模设置在基板上方，并且包括两个或更多个凸起，两个或更多个凸起限定基板或设置在基板上的装置层的暴露部分。每个凸起具有在与装置层接触的底表面处的后尾边缘，在每个凸起的顶表面处的前导边缘和从顶表面到装置层的高度。重复以离子角度将基板暴露于离子，以形成复数个深度的至少一个后续深度。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112805613 A
(43)申请公布日 2021.05.14
(21)申请号 201980064955.4 (74)专利代理机构 北京律诚同业知识产权代理
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