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- 2023-06-06 发布于四川
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本发明涉及镀膜技术领域,公开了一种防指纹镀膜方法、防指纹镀膜结构及显示装置。该防指纹镀膜方法包括步骤:将基板放置在真空镀膜室,对真空镀膜室进行抽低真空;对基板进行等离子清洗,对真空镀膜室进行抽高真空;用等离子方式在基板上制备无机硅膜层,对真空镀膜室进行抽高真空;蒸发防指纹药丸,在无机硅膜层上形成防指纹层。通过等离子方式加入气态硅油,形成二氧化硅,后蒸发防指纹药丸,硅的成膜速率快,结构简单,产品生产面积大,生产效率高。本发明中,通过等离子方式加入气态硅油,通过化学沉积形成无机硅膜层,后蒸发防指纹药
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112746264 A
(43)申请公布日 2021.05.04
(21)申请号 202011603948.8 C23C 28/00 (2006.01)
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