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本发明公开了一种溅射离子泵烘烤装置,包括离子泵泵体,离子泵泵体的泵腔为真空腔体,真空腔体内设有抽气单元,离子泵泵体上端中部固定安装有抽气通道,且抽气通道与真空腔体内部相通,抽气通道上端固定连接有真空法兰,离子泵泵体的真空腔体内部设有烘烤加热器。本发明的溅射离子泵烘烤装置将烘烤加热器置于离子泵泵体的泵腔内部,烘烤加热器直接对内泵体内壁烘烤加热,烘烤效率高,且烘烤加热器远离磁体,磁体不易高温退磁,这种就可以选用磁性更强而耐温稍低的磁体,溅射离子泵的烘烤加热器位于离子泵泵体的泵腔内部,对抽气单元的烘烤
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112815630 A
(43)申请公布日 2021.05.18
(21)申请号 202011559631.9
(22)申请日 2020.12.25
(71)申请人 上海
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